IC Bumping電鍍液 ( Plating Solution )

  • 商品編號: 189369
  • 商品分類: IC Bumping電鍍液 ( Plating Solution )
產品型號 Coppertek M80 Coppertek S30+ Coppertek SS323 Coppertek SS313
主要成份 甲基磺酸銅 硫酸銅 硫酸銅 硫酸銅
作業溫度 35~45 ℃ 23~27 ℃ 23~27 ℃ 23~27 ℃
電流密度 15~30 ASD 3~9 ASD 2~6 ASD 2~6 ASD
適用範圍 Cu pillar / RDL / UBM Cu pillar / RDL / UBM RDL / UBM RDL / UBM
產品特性

鍍層厚度 <200um

開孔大小 <15um

鍍層厚度 <20um

線寬大小 >1um

熱穩定佳
機械強度佳
(111) 雙晶比例>30%
熱穩定佳
機械強度佳
(111) 雙晶比例>95%

 

 

  • 商品編號: 189370
  • 商品分類: IC Bumping電鍍液 ( Plating Solution )
產品型號 Tintek LF-80 MUS Tintek PT-80 MUS
主要成份 甲基磺酸錫 + 甲基磺酸 甲基磺酸錫 + 甲基磺酸
作業溫度 30 ± 2 ℃ 30 ± 2 ℃
電流密度 2 ~ 9 ASD 2 ~ 5 ASD
適用範圍 錫銀電鍍液 純錫電鍍液
產品特色

無鉛、錫銀合金鍍層

無鉛、純錫鍍層
  • 商品編號: 189371
  • 商品分類: IC Bumping電鍍液 ( Plating Solution )
產品名稱 電鍍液 無電解電鍍液 置換金電鍍液
產品型號 Aurotek ST 10 Aurotek SI 3 Aurotek CN 1.2
主要成份 亞硫酸金 亞硫酸金 氰化金鉀
產品特色 附著力佳
  • 商品編號: 189372
  • 商品分類: IC Bumping電鍍液 ( Plating Solution )
產品名稱 純鈀電鍍液 無電解鍍液
產品型號 Palladiumtek AS5 Palladiumtek EP6
主要成份 硫酸銨鈀 二氯四氨鈀
產品特色 附著力佳,低應力 附著力佳,低應力
  • 商品編號: 189373
  • 商品分類: IC Bumping電鍍液 ( Plating Solution )
產品名稱 非氰化物中性鍍液 非氰化物鹼性鍍液
產品型號 Silvetek MS 40 Silvetek MH 40
主要成份 非氰化物 非氰化物
作業溫度 30 ± 5 ℃ 40 ± 5℃
電流密度 0.5 ± 0.3 ASD 0.8 ± 0.3 ASD
鍍層厚度 > 10um > 30um
產品特色 不含氰化物
  • 商品編號: 189374
  • 商品分類: IC Bumping電鍍液 ( Plating Solution )
產品名稱 無電解鍍液 無電解鍍液 半光澤電鍍液
產品型號 Nickeltek EL 5 Nickeltek EL 6 Nickeltek N 65
主要成份 硫酸鎳 硫酸鎳 胺基磺酸鎳
產品特色 高穩定性
中低磷鍍層
高穩定性
高磷鍍層
半光澤低應力鍍層

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